Dem weltweit größtem Chip-Hersteller “Intel” ist es gelungen, den Lithographie-Prozess für die Übertragung von intelligenten Strukturen auf einem Silizium-Wafer, auf eine Struktur Breite von 15 Nanometer zu reduzieren.

Die im Labor weiterentwickelte Technik, nennt sich Extreme Ultraviolet (EUV) – Lithographie. Diese ist auch bei der Produktion des aktuellen 45-Nanometer-Chips verwendet worden. Zum Jahresende werden die ersten Bereiche auf 32 Nanometer wechseln.

Die kleinsten Strukturen, die zuvor mit der EUV-Lithographie  unter Laborbedingungen erzeugt werden konnten, lagen in der Größenordnung von 24 Nanometern.
Es wird berichtet, dass die 15-Nanometer-Technologie erst in einem frühen Stadium ihrer Entwicklung steht. Chips können mit dieser Technologie noch nicht hergestellt werden.

Forschern bei Intel ist es nun gelungen, einfache Linien auf einem Wafer abzulichten. Bis komplexe Strukturen eines Prozessors zugeordnet werden können, benötigt es noch einige Zeit der Forschung.

Related Posts Plugin for WordPress, Blogger...
ÜBER DEN AUTOR

Roman

PG Hey, willkommen auf meinem Blog! Ich bin 24 Jahre alt und studiere Fahrzeug und Flugzeugtechnik an der FH München. In meiner Freizeit betreibe ich diesen Blog und gehe gerne fotografieren. Um mehr über mich und diese Seite zu erfahren, oder Kontakt mit mir aufzunehmen, habe ich die "About-Seite" eingerichtet. Viele Grüße