Dem weltweit größtem Chip-Hersteller “Intel” ist es gelungen, den Lithographie-Prozess für die Übertragung von intelligenten Strukturen auf einem Silizium-Wafer, auf eine Struktur Breite von 15 Nanometer zu reduzieren.
Die im Labor weiterentwickelte Technik, nennt sich Extreme Ultraviolet (EUV) – Lithographie. Diese ist auch bei der Produktion des aktuellen 45-Nanometer-Chips verwendet worden. Zum Jahresende werden die ersten Bereiche auf 32 Nanometer wechseln.
Die kleinsten Strukturen, die zuvor mit der EUV-Lithographie unter Laborbedingungen erzeugt werden konnten, lagen in der Größenordnung von 24 Nanometern.
Es wird berichtet, dass die 15-Nanometer-Technologie erst in einem frühen Stadium ihrer Entwicklung steht. Chips können mit dieser Technologie noch nicht hergestellt werden.
Forschern bei Intel ist es nun gelungen, einfache Linien auf einem Wafer abzulichten. Bis komplexe Strukturen eines Prozessors zugeordnet werden können, benötigt es noch einige Zeit der Forschung.
Roman
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